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MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM

Patente nacional por "MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM"

Este registro ha sido solicitado por

CARL ZEISS SMT GMBH

a través del representante

FRANK, HARTMUT ET AL.

Contacto
 
 
 




  • Estado: Solicitud publicada
  • País:
  • PCT Patente 
  • Fecha solicitud:
  • 10/05/2023 
  • Número solicitud:

  • PCT/EP2023/062441 
  • Número publicación:

  • WO2023/227374 
  • Fecha de concesión:

  •  
  • Inventores:

  • Persona física 
  • Datos del titular:
  • CARL ZEISS SMT GMBH
  • Datos del representante:
  • FRANK, Hartmut et al.
     
  • Clasificación Internacional de Patentes:
  • G03F 7/00,G02B 26/08,G02B 5/08 
  • Clasificación Internacional de Patentes de la publicación:
  • G03F 7/00,G02B 26/08,G02B 5/08 
  • Fecha de vencimiento:
  •  
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Los productos y servicios protegidos por este registro son:
G03F 7/00 - G02B 26/08 - G02B 5/08

Publicaciones:
WO2023/227374 (30/11/2023) - A1 Solicitud internacional PCT con informe de búsqueda internacional en la OMPI
Eventos:
En fecha 30/11/2023 se realizó Publicación OMPI Solicitud Internacional PCT con Informe de Búsqueda Internacional (A1)
En fecha 01/12/2023 se realizó Publicación Solicitud Internacional PCT

Fuente de la información

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Información sobre el registro de patente nacional por MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM con el número PCT/EP2023/062441

El registro de patente nacional por MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM con el número PCT/EP2023/062441 fue solicitada el 10/05/2023. Se trata de un registro en PCT Patente por lo que este registro no ofrece protección en el resto de países. El registro MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM con el número PCT/EP2023/062441 fue solicitada por CARL ZEISS SMT GMBH mediante los servicios del agente FRANK, Hartmut et al.. El registro [modality] por MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM con el número PCT/EP2023/062441 está clasificado como G03F 7/00,G02B 26/08,G02B 5/08 según la clasificación internacional de patentes.

Otras invenciones solicitadas por CARL ZEISS SMT GMBH

Es posible conocer todas las invenciones solicitadas por CARL ZEISS SMT GMBH entre las que se encuentra el registro de patente nacional por MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM con el número PCT/EP2023/062441. Si se desean conocer más invenciones solicitadas por CARL ZEISS SMT GMBH clicar aquí.

Otras invenciones solicitadas en la clasificación internacional de patentes G03F 7/00,G02B 26/08,G02B 5/08.

Es posible conocer invenciones similares al campo de la técnica se refiere. El registro de patente nacional por MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM con el número PCT/EP2023/062441 está clasificado con la clasificación G03F 7/00,G02B 26/08,G02B 5/08 por lo que si se desea conocer más registros con la clasificación G03F 7/00,G02B 26/08,G02B 5/08 clicar aquí.

Otras invenciones solicitadas a través del representante FRANK, HARTMUT ET AL.

Es posible conocer todas las invenciones solicitadas a través del agente FRANK, HARTMUT ET AL. entre las que se encuentra el registro patente nacional por MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM con el número PCT/EP2023/062441. Si se desean conocer más invenciones solicitadas a través del agente FRANK, HARTMUT ET AL. clicar aquí.

Patentes en PCT Patente

Es posible conocer todas las invenciones publicadas en PCT Patente entre las que se encuentra el registro patente nacional por MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM. Nuestro portal www.patentes-y-marcas.com ofrece acceso a las publicaciones de patentes en PCT Patente. Conocer las patentes registradas en un país es importante para saber las posibilidades de fabricar, vender o explotar una invención en PCT Patente.

Patentes registradas en la clase G

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase G (FISICA) entre las que se encuentra la patente MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM con el número PCT/EP2023/062441. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

Patentes registradas en la clase G03

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase G03 (FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELE) entre las que se encuentra la patente MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM con el número PCT/EP2023/062441. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

Patentes registradas en la clase G03F

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase G03F (PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMI) entre las que se encuentra la patente MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM con el número PCT/EP2023/062441. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

Patentes registradas en la clase G02

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase G02 (OPTICA) entre las que se encuentra la patente MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM con el número PCT/EP2023/062441. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

Patentes registradas en la clase G02B

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase G02B (ELEMENTOS, SISTEMAS O APARATOS OPTICOS) entre las que se encuentra la patente MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM con el número PCT/EP2023/062441. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

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