Home /
Publicaciones de patentes /
DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS

DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS

Patente nacional por "DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS"

Este registro ha sido solicitado por

MERCK PATENT GMBH

a través del representante

RIPPEL, HANS CHRISTOPH

Contacto

Estado: Solicitud publicada

País:

PCT Patente

Fecha solicitud:

28/04/2023

Número solicitud:

PCT/EP2023/061204

Número publicación:

WO2023/213696

Fecha de concesión:

Inventores:

Persona física

Datos del titular:

MERCK PATENT GMBH

Datos del representante:

RIPPEL, Hans Christoph

Clasificación Internacional de Patentes:

C08F 212/08,C08F 212/32,C08F 220/14,C09D 133/08,C09D 133/12,G03F 7/00,H01L 21/027

Clasificación Internacional de Patentes de la publicación:

C08F 212/08,C08F 212/32,C08F 220/14,C09D 133/08,C09D 133/12,G03F 7/00,H01L 21/027

Fecha de vencimiento:

Quiero registrar una patente

¿Tienes una idea y quieres saber si ya existe?
TE PODEMOS AYUDAR

¿Quieres solicitar un registro similar a éste?
DESCUBRE CÓMO

¿Necesitas ayuda con el registro de modelo de utilidad?
CONSÚLTANOS

¿Quieres vender o licenciar tu patente?
CONSÚLTANOS

¿Tienes una idea y quieres saber si ya existe?
TE PODEMOS AYUDAR

¿Eres el propietario de este registro?
ACCEDE A SERVICIOS GRATUITOS

Asesores en Propiedad Industrial

Abogados especialistas en Propiedad Industrial Intelectual

Asesores Fiscales especializados en Propiedad Industrial

Ingenierías

El Mapa del Inventor

(El secreto del emprendedor exitoso)

Un curso GRATUITO por email de 6 días que desvela todo lo que necesitas para blindar tu idea y venderla, crear prototipos impresionantes, encontrar la fábrica perfecta y
desarrollar un plan de comunicación potente

Nuestro objetivo ayudar a 10.000 Inventores a lanzar sus productos

Los productos y servicios protegidos por este registro son:
C08F 212/08 - C08F 212/32 - C08F 220/14 - C09D 133/08 - C09D 133/12 - G03F 7/00 - H01L 21/027

Publicaciones:
WO2023/213696 (09/11/2023) - A1 Solicitud internacional PCT con informe de búsqueda internacional en la OMPI
Eventos:
En fecha 09/11/2023 se realizó Publicación OMPI Solicitud Internacional PCT con Informe de Búsqueda Internacional (A1)
En fecha 10/11/2023 se realizó Publicación Solicitud Internacional PCT

Fuente de la información

Parte de la información aquí publicada es pública puesto que ha sido obtenida de la Oficina de Propiedad Industrial de los diferentes países el 17/06/2024 y por lo tanto puede ser que la información no esté actualizada.

Parte de la información aquí mostrada ha sido calculada por nuestro sistema informático y puede no ser veraz.

Privacidad

Si considera que al información aquí publicada afecta a su privacidad y desea que eliminemos la información aquí publicada envíe un email a info@patentes-y-marcas.com o rellene el formulario que encontrará aquí.

Información sobre el registro de patente nacional por DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204

El registro de patente nacional por DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204 fue solicitada el 28/04/2023. Se trata de un registro en PCT Patente por lo que este registro no ofrece protección en el resto de países. El registro DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204 fue solicitada por MERCK PATENT GMBH mediante los servicios del agente RIPPEL, Hans Christoph. El registro [modality] por DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204 está clasificado como C08F 212/08,C08F 212/32,C08F 220/14,C09D 133/08,C09D 133/12,G03F 7/00,H01L 21/027 según la clasificación internacional de patentes.

Otras invenciones solicitadas por MERCK PATENT GMBH

Es posible conocer todas las invenciones solicitadas por MERCK PATENT GMBH entre las que se encuentra el registro de patente nacional por DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204. Si se desean conocer más invenciones solicitadas por MERCK PATENT GMBH clicar aquí.

Otras invenciones solicitadas en la clasificación internacional de patentes C08F 212/08,C08F 212/32,C08F 220/14,C09D 133/08,C09D 133/12,G03F 7/00,H01L 21/027.

Es posible conocer invenciones similares al campo de la técnica se refiere. El registro de patente nacional por DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204 está clasificado con la clasificación C08F 212/08,C08F 212/32,C08F 220/14,C09D 133/08,C09D 133/12,G03F 7/00,H01L 21/027 por lo que si se desea conocer más registros con la clasificación C08F 212/08,C08F 212/32,C08F 220/14,C09D 133/08,C09D 133/12,G03F 7/00,H01L 21/027 clicar aquí.

Otras invenciones solicitadas a través del representante RIPPEL, HANS CHRISTOPH

Es posible conocer todas las invenciones solicitadas a través del agente RIPPEL, HANS CHRISTOPH entre las que se encuentra el registro patente nacional por DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204. Si se desean conocer más invenciones solicitadas a través del agente RIPPEL, HANS CHRISTOPH clicar aquí.

Patentes en PCT Patente

Es posible conocer todas las invenciones publicadas en PCT Patente entre las que se encuentra el registro patente nacional por DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS. Nuestro portal www.patentes-y-marcas.com ofrece acceso a las publicaciones de patentes en PCT Patente. Conocer las patentes registradas en un país es importante para saber las posibilidades de fabricar, vender o explotar una invención en PCT Patente.

Patentes registradas en la clase C

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase C (QUIMICA; METALURGIA) entre las que se encuentra la patente DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

Patentes registradas en la clase C08

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase C08 (COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN) entre las que se encuentra la patente DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

Patentes registradas en la clase C08F

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase C08F (COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES QUE IMPLICAN UNICAMENTE ENLACES INSATURADOS CAR) entre las que se encuentra la patente DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

Patentes registradas en la clase C09

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase C09 (COLORANTES; PINTURAS; PULIMENTOS; RESINAS NATURALES; ADHESIVOS; COMPOSICIONES NO PREVISTAS EN OTRO L) entre las que se encuentra la patente DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

Patentes registradas en la clase C09D

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase C09D (COMPOSICIONES DE REVESTIMIENTO, p. ej. PINTURAS, BARNICES, LACAS; EMPLASTES; PRODUCTOS QUIMICOS PARA) entre las que se encuentra la patente DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

Patentes registradas en la clase G

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase G (FISICA) entre las que se encuentra la patente DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

Patentes registradas en la clase G03

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase G03 (FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELE) entre las que se encuentra la patente DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

Patentes registradas en la clase G03F

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase G03F (PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMI) entre las que se encuentra la patente DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

Patentes registradas en la clase H

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase H (ELECTRICIDAD) entre las que se encuentra la patente DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

Patentes registradas en la clase H01

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase H01 (ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS) entre las que se encuentra la patente DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

Patentes registradas en la clase H01L

Es posible conocer todas las patentes registradas en la clase H01L (DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR) entre las que se encuentra la patente DEVELOPMENT OF NOVEL NEUTRAL MATS CONTAINING HYDROXYL MONOMERS TO IMPROVE SIARC SUBSTRATE COMPATIBILITY FOR DIRECTED SELF-ASSEMBLY OF DIBLOCK COPOLYMERS con el número PCT/EP2023/061204. Conocer las patentes registradas en una clase es importante para saber las posibilidades de registrar una patente en esa misma clase.

¿Tienes alguna duda?

Escribe tu consulta y te responderemos rápida y gratuitamente.